Máy phủ phún xạ Cressington 208HRD cho FE/SEM
Máy phủ phún xạ Cressington 208HRD cho FE/SEM
- Đang có sẵn: Vui lòng liên hệ
- Tạm thời chưa có khuyến mãi cho sản phẩm này
Hotline: 0906.988.447
Liên hệ: Hồ Chí Minh
- Điện thoại: (028).3977.8269
- Email: [email protected]
- Địa chỉ: 487 Cộng Hòa, Phường Tân Bình, TP. Hồ Chí Minh, Việt Nam
Liên hệ: Bắc Ninh, Hà Nội
- Điện thoại: (0222).730.0180
- Email: [email protected]
- Địa chỉ: 184 Bình Than, Phường Võ Cường, Bắc Ninh, Việt Nam
-
Tư vấn kĩ thuật
Miễn phí
-
Miễn phí vận chuyển
Đơn hàng trên 3 triệu
Đầu phún xạ: Planar magnetron. Thay bia phún xạ nhanh (Quick target change). Tấm chắn vùng tối bao quanh (Wrap-around dark-space shield). Màn chắn để điều kiện hóa bia (Shutter for target conditioning)
Bia phún xạ: Cr, Pt/Pd, Ir (xem danh sách đầy đủ)
Bộ nguồn phún xạ: Dựa trên vi xử lý. Có khóa liên động an toàn. Điều khiển dòng không đổi (constant current), độc lập với mức chân không. Dòng điện có thể chọn kỹ thuật số (20, 40, 60 hoặc 80mA)
Kích thước buồng: Đường kính ngoài 150mm (6"). Kèm buồng ngắn 65mm. Khoảng cách lắng đọng theo chiều dọc đến bàn RPT có thể thay đổi bằng cách thêm vòng đệm kim loại cao 15mm (kèm 2 vòng). Tùy chọn bàn cố định với buồng cao 150mm và vòng đệm bổ sung có sẵn (#7021-208HR)
Bàn đặt mẫu: nghiêng thủ công 0–90°. Tốc độ xoay có thể điều chỉnh. Đầu tinh thể (Crystal head). 4 giá đỡ mẫu (vui lòng chỉ định khi đặt hàng, xem phần Giá đỡ mẫu)
Đồng hồ đo tương tự: Chân không: từ áp suất khí quyển (Atm) đến 0.001 mbar. Dòng điện: 0–100mA. Điện áp: 0–500V
Phương thức điều khiển: Vận hành tự động chức năng xả khí (purge) và kiểm tra rò rỉ (leak). Trình tự quy trình tự động. Bộ hẹn giờ kỹ thuật số (1–600 giây) có chức năng tạm dừng (pause). Xả khí tự động (Automatic venting)
Điều khiển độ dày: Bộ điều khiển MTM-20 có chức năng tự động dừng (terminating facility)
Kích thước: Rộng 600mm (23.6") x Sâu 600mm (23.6") x Cao 450mm (17.7") (kèm bơm)
Khối lượng: 40kg (88.5 lbs) (kèm bơm)
Giới thiệu máy phún xạ carbon 108C
208HRD High Resolution Sputter Coater từ Cressington mang đến giải pháp toàn diện cho các vấn đề gặp phải khi phủ lớp lên các mẫu khó trong chụp ảnh FESEM. Các ứng dụng FESEM yêu cầu lớp phủ cực mỏng, hạt mịn và đồng đều để loại bỏ hiện tượng tích điện (charging) và cải thiện độ tương phản trên các vật liệu có mật độ thấp. Để giảm thiểu tối đa ảnh hưởng của kích thước hạt, 208HRD cung cấp đầy đủ các vật liệu phủ và cho phép kiểm soát chưa từng có đối với độ dày và điều kiện lắng đọng. Hệ thống chân không cao bơm turbo 208HRD Turbo Pumped High Vacuum System hỗ trợ dải áp suất vận hành rộng, cho phép kiểm soát chính xác cả độ đồng đều (uniformity) và độ bám sát bề mặt (conformity) của lớp phủ, giảm thiểu hiệu ứng tích điện.
Vật liệu phủ phún xạ ưu tiên cho ứng dụng FESEM
| Vật liệu | Đặc điểm |
| Ir (Iridium) | Vật liệu phủ hạt cực mịn, chất lượng xuất sắc |
| Pt/Pd (Bạch kim/Palladium) | Vật liệu phủ độ phân giải cao đa năng cho mẫu không dẫn điện |
| Cr (Crom) | Xuất sắc cho vật liệu bán dẫn và chụp ảnh điện tử tán xạ ngược (back scattered electron imaging) độ phân giải cao |
Phụ kiện
Vui lòng đăng nhập để viết đánh giá!